CYEB-1300R型設(shè)備專(zhuān)為光學(xué)薄膜器件鍍膜設(shè)計(jì)，配置低溫捕集器輔助真空，配置優(yōu)良電子槍?zhuān)捎肐AD射頻離子輔助蒸發(fā)成膜方式。在保證精密光學(xué)特性的同時(shí)，膜層殘余應(yīng)力低、均勻性好、致密度高；高自動(dòng)化程度的膜厚控制系統(tǒng)，全自動(dòng)化控制模塊，穩(wěn)定性能好操作簡(jiǎn)單且維護(hù)方便，各系統(tǒng)單元和結(jié)構(gòu)很好地滿足光學(xué)薄膜生產(chǎn)工藝要求。適用于AR膜、顏色膜、NCVM非導(dǎo)金屬膜、AF膜、裝飾膜、激光膜，DBR反射膜等加工，是精密光學(xué)薄膜的理想鍍制設(shè)備，提供高水平的膜厚控制精度和人性化的操控。

IS系列鍍膜機(jī)是采用本公司成熟的專(zhuān)利技術(shù):高能離子束清洗源(IONBEAM)+磁控濺射源(SPUTTER)，設(shè)備采用全自動(dòng)化控制，模塊化集成優(yōu)化，設(shè)備功率高、穩(wěn)定性能好、操作簡(jiǎn)單且維護(hù)方便。為滿足不同的鍍膜需求，腔室內(nèi)可設(shè)計(jì)配置平面圓形靶、條形靶和圓柱靶等多種靶材，可獲得致密度高、均勻性能好的多層復(fù)合膜，包括各種金屬、以及絕緣的氧化物、陶瓷薄膜等;適合涂層研發(fā)及批量鍍膜服務(wù)。

PIS422型純離子鍍膜設(shè)備(如圖)集純離子鍍膜技術(shù)(PIC)、高能離子束清洗技術(shù)(IONBEAM)和磁控濺射技術(shù)(SPUTTER)三種技術(shù)融合于一體，設(shè)備利用高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)和電磁掃描系統(tǒng)，有效過(guò)濾掉中性粒子、大顆粒離子團(tuán)等雜質(zhì)，大幅度提高等離子束流純度，使膜層更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優(yōu)異?？梢藻冎坪穸确秶鷱?00nm-28μm的超級(jí)類(lèi)金剛石Ta-C膜層。

PIS系列純離子鍍膜設(shè)備(如圖)主要是集純離子鍍膜技術(shù)(PIC)、高能離子束清洗技術(shù)(IONBEAM)和磁控濺射技術(shù)(SPUTTER)三種技術(shù)融合于一體，其獨(dú)有的純離子鍍膜源核心技術(shù)，利用高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)和電磁掃描系統(tǒng)，有效過(guò)濾掉中性粒子、大顆粒離子團(tuán)等雜質(zhì)，大幅度提高等離子體束流純度，使膜層更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優(yōu)異?？梢藻冎坪穸确秶鷱?/span>100nm-28μm的超級(jí)類(lèi)金剛石Ta-C膜層。

PEPEIC系列設(shè)備主要是（集）一體化高性能弧源技術(shù)（PEPIC）、 高能離子束清洗技術(shù)（IONBEAM）和磁控濺射技術(shù)（SPUTTER）三種技術(shù)融合一體，可適應(yīng)多種鍍膜靶材，無(wú)論金屬、非金屬及各類(lèi)復(fù)合材料都可以利用此設(shè)備進(jìn)行鍍膜及成膜，膜層具有高致密性、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點(diǎn)。設(shè)備可鍍制各類(lèi)金屬?gòu)?fù)合物涂層如：TiN、TiCN、TiAlN、CrN；金屬涂層如：Cu、Au、Ag等。設(shè)備具備可編程序控制器（PLC）+人機(jī)界面(HMI)組合電氣控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化控制。

PI系列設(shè)備主要是（集）純離子鍍膜技術(shù)（PIC）、 高能離子束清洗技術(shù)（IONBEAM）兩種技術(shù)融合一體，本系列標(biāo)配雙腔室結(jié)構(gòu)，更好的滿足高真空鍍膜需求;使膜層具有高致密度、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點(diǎn)。設(shè)備可鍍制10nm-1μm的超級(jí)類(lèi)金剛石膜（Ta-C）。設(shè)備具備可編程序控制器（PLC）+人機(jī)界面(HMI)組合電氣控制系統(tǒng)，全自動(dòng)化控制系統(tǒng)。

IS系列鍍膜機(jī)是采用本公司成熟的專(zhuān)利技術(shù):高能離子束清洗源(IONBEAM)+磁控濺射源(SPUTTER)，設(shè)備采用全自動(dòng)化控制，模塊化集成優(yōu)化，設(shè)備功率高、穩(wěn)定性能好、操作簡(jiǎn)單且維護(hù)方便。為滿足不同的鍍膜需求，腔室內(nèi)可設(shè)計(jì)配置平面圓形靶、條形靶和圓柱靶等多種靶材，可獲得致密度高、均勻性能好的多層復(fù)合膜，包括各種金屬、以及絕緣的氧化物、陶瓷薄膜等;適合涂層研發(fā)及批量鍍膜服務(wù)。

IS-PM系列貴金屬薄膜專(zhuān)用鍍膜設(shè)備采用雙腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，工藝腔+裝/卸載腔，是工藝可靠性與制程效率的完美融合。設(shè)備配備一套高能高能離子束清洗源(IONBEAM),多套磁控濺射源(SPUTTER)，配合可靠的伺服電磁推進(jìn)系統(tǒng)，設(shè)備模塊化程度高、穩(wěn)定性好、操作簡(jiǎn)單且維護(hù)方便。

設(shè)備主要原理：通入刻蝕室的工藝氣體分子分解電離，產(chǎn)生等離子體。由等離子體中的部分活性基團(tuán)與被刻蝕材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng);通過(guò)脈沖/射頻電源，使等離子體中的正離子對(duì)被刻蝕材料表面進(jìn)行物理轟擊，從而以物理、化學(xué)相結(jié)合的方法對(duì)材料表面進(jìn)行處理，達(dá)到對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行清潔、改性、刻蝕的目的。